清洁技术，又称生产环境和污染控制技术，是近二三十年来发展起来的一门综合性的高新技术。清洁技术专门研究和提供清洁的生产工艺环境和生产过程中使用的各种高纯度介质，有效地控制微量杂质，以保证高科技产品的收率和重复性。清洁技术通常包括:空气净化技术，空调技术，水净化技术，气体净化技术，微量杂质控制技术，清洁环境监测技术以及相关的环境质量控制技术。 净化工程技术已广泛应用于电子，核，航空航天，生物工程，制药，精密机械，化工，食品，汽车制造等高新技术产业和现代科学领域。
对半导体设备来说，净化工程技术在微电子技术中起着非常重要的作用。微电子技术的核心是集成电路，集成电路的生产对工艺环境和工艺设备提出了严格的要求。九五"期间，中国大力发展以微电子为核心的信息产业，净化工程技术水平已成为衡量一个国家和地区科技水平和工业水平的重要标志。
随着我国人民生活水平的提高，人们对生活环境和生活质量提出了越来越高的要求，用净水设备配制的高纯水受到了人们的广泛欢迎，净化工程技术开始进入千家万户，进入人们的现代生活。
与国外先进国家相比，我国清洁技术与设备的差距明显。1965年开始生产的HEPA过滤器比国外晚15年。1975年开始生产的光散射粉尘计数器比国外晚20年。0.1微米的清洁技术和设备在世界先进国家已成为成熟的技术，而中国才刚刚起步。
为了适应超净技术的发展，高效过滤器的研究从未中断，几年来一直在开发不同结构，不同性能的新产品。美国从1979年开始开发0.1微米ULPA过滤器，1984年AAF开始生产0。无分区的1微米ULPA滤波器。 目前，0.1微米ULPA滤光片已在美国AAF，佛兰德斯和剑桥实现商业化。 日本也成为世界上最大的0.1微米ULPA过滤器制造商，产品种类繁多，特别是开发低压损失0。1微米ULPA滤镜成功解决了初阻高的技术难题。 国际市场对高效空气滤清器的需求很大，而且每年都在增长。 目前，日本一年销售100多万台，按平均每台价格2亿美元计算，销售额为2亿美元。然而，到目前为止，还没有0.1微米的ULPA过滤器生产。用于VLSI生产清洁工厂的0.1微米ULPA过滤器以及各种高科技清洁工厂仍然依赖进口。
在洁净室建设规模和技术水平上，我国与先进国家的差距更大。日本清水建设公司在1982年至1987年建成洁净室71.8万平方米，而我国目前一年建成洁净室不足10万平方米，但‘八五’期间有了很大发展。1993年建成的洁净室总面积接近15万平方米。 美国洁净室建设规模更大，1998年达到188.5万平方米。 在洁净工程技术层面，20世纪80年代末，国外大量建成0.1微米级超洁净室。1987年，日本三洋新泻工厂建成了3000平方米的10尺寸洁净厂房，NIT原木则建了4座1000平方米的1000尺寸厂房，控制0.1微米粉尘，换气次数高达每分钟300次。台积电在台湾的新工厂建成了总面积达1万平方米的第四代管道洁净室。洁净厂房在大规模集成电路制造装备投资中占比较高，不适应集成电路技术不断更新，产品更新换代周期越来越快的发展趋势，严重制约大规模集成电路技术的发展
清洁技术和设备的国际市场非常巨大，日本清洁技术和设备的销售额到80年代末90年代初就超过了35亿美元。清洁设备和基础部件在美国和西欧等先进国家的销售额已经达到7美元。30亿。 据中国电子专用设备行业协会统计，1990年我国最大的8家净化设备厂销售额为8217万元，不足1亿元，1993年达到14495万元，占国际市场销售额的0.34%。而随着我国高新技术的迅猛发展，微电子产业，光纤产业，液晶显示产业，光电子器件产业，生物工程和医药产业的发展，我国潜在的巨大清洁技术产品市场正以每年40%≤50%的增长率递增。
