净化车间的温湿度主要是根据工艺要求来确定的，但在满足工艺要求的情况下，应考虑人的舒适性。随着空气洁净度要求的提高，对温湿度的工艺要求越来越严格。
今后应列举具体工艺的温度要求，但作为一般原则，由于加工精度越来越高，对温度波动范围的要求越来越小。例如，在大规模集成电路生产的光刻曝光过程中，作为掩模材料的玻璃与硅片的热膨胀系数之差越来越小。直径100μm的硅片，当温度升高1度时，会引起0.24μm的线膨胀，所以必须有±0.1度的恒定温度，湿度值一般较低，因为出汗后会对产品造成污染，特别是半导体车间，它怕钠，不应超过25度。
空气清洁度等级标准和规范
经济技术发达的国家和地区有自己的空气洁净度标准和标准，并规定了美国、日本、西欧、北欧、俄罗斯等国家和地区的相关洁净度等级。1984年，中国颁布了"洁净厂房设计规范"(GBJ73-84)，1996年对"洁净厂房设计规范"进行了大幅度修订，1990年颁布了"洁净室建设验收规范"(JGJ 71-90)，指导重要文件的建设和验收。目前，规范正在修订中。
大多数洁净车间，特别是电子工业的车间，不仅对工厂的温湿度有严格的要求，而且对温度和相对湿度的波动范围也有严格的要求。因此，应采取相应的措施来净化空调系统的空气处理，如夏季的冷却和除湿(因为室外空气在夏季是高温高湿)，冬季的取暖和加湿(因为冬季的室外空气寒冷干燥，室内湿度过低会产生静电，静电对电子产品的生产是致命的)。
